THIEME LAB 1000

Präzisionssiebdruckmaschine mit kameragestützter Siebausrichtung und Substratausrichtung

Siebdruck baureihe

Präzisionssiebdruckmaschine mit automatischer Siebausrichtung und automatischer Substratausrichtung mittels CCD-Kamerasystemen.

Zum Einsatz in der Produkt- und Prozessentwicklung und der hochpräzisen Serienfertigung
Für selektives Beschichten und funktionales Drucken von z.B. printed electronics, Solarzellen, RFID and organic electronics

Präzisionssiebdruckmaschine
Automatische Siebausrichtung mittels CCD Kameras
Automatische Substratanpassung mittels CCD Kameras
Programmierbare Kamera-Software ermöglicht unterschiedliche Messmarken
Bewährtes Rakelsystem mit automatischer Druckregelung und selbstständiger Ausrichtung
Automatisierter Siebwechsel ohne Ausbau von Rakel oder Flutrakel
PLC Steuerung aller Druckparameter über Siemens Farb-Touch-Panel
Dokumentation und Download von Prozessparametern erleichtert das Erstellen von Statistiken
Zweihandbediener oder Automatikbetrieb (optional)

Maschinentyp	400	600
Druckformat [mm]	400x400	600x600
Bogenformat max. [mm]	420x420	620x620
Siebrahmenformat max. [mm]	850x800	1050x1000
Siebrahmenformat min. [mm]	300x240	300x240
Vakuumfeldgröße [mm]	400x400	600x600
Außenabmessungen (bxlxh) [mm]	1685x1570x1850	2085x1770x1850
Gewicht [kg]	950	1050
Siebreinigungshöhe über Tisch [mm]	215
Druckguthöhe max. [mm]	20
Vakuumbohrungen Drucktisch [mm]	0,8
Feinjustierung des Tisches Y-Y-X [mm]	+/- 8
Rakelgeschwindigkeit [m/sec]	50-1000
Mechanische Wiederholgenauigkeit Siebausrichtung [µm]	+ / - 15
Mechanische Wiederholgenauigkeit Substratausrichtung [µm]	+ / - 15
Anschlussspannung [V]	400/230
Anschlussleistung [kW]	3,5
Verbrauch [A/V]	6,5/400
Druckgeschwindigkeit auf Anfrage. Technische Angaben sind unverbindlich und Änderungen vorbehalten.

Die Anwendungsmöglichkeiten funktionaler Druckverfahren sind unbegrenzt und ständig kommen neue hinzu: beispielsweise die Herstellung von Antennen, Folientastaturen oder Leiterbahnen.
Bei der Entwicklung neuer Prozesse unterstützen wir unsere Kunden mit Lösungen für den Prozesseinstieg („Lab-to-Fab“), die wir im hauseigenen Technology Center erproben. Daneben führen wir auch Machbarkeitsstudien durch.

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Sie suchen Lösungen für die Produktion von Brennstoffzellen, Dünnschichtsolarzellen (CIGS, DSSC, usw.) Batterien oder ähnlichem?

Thieme konzipiert in enger Zusammenarbeit mit seinen Kunden deren maßgeschneiderte Drucklinie.

Es werden Maschinen in den Bereichen Rolle zu Rolle, Dünnschicht auf Glas und auch hochpräzisen Siebdruck gebaut.
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In den Labors wird stetig an Innovationen und Neuerungen gearbeitet. So können wir garantieren, dass "Zukunft Siebdruck" auch umgesetzt wird. Umweltauflagen und gesetzliche Bestimmungen fordern die Hersteller immer wieder auf, Ihre Produkte noch besser und effizienter zu gestalten. Natürlich wird auch nach kundenspezifischen Vorgaben entwickelt, um deren teils sogar höhere Standards zu erfüllen.
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